华体会hth登录入口純水設備脫鹽率下降過快的原因

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在脫鹽水處理設備中,采用华体会hth登录入口膜進行脫鹽處理是目前最實用技術。华体会hth登录入口設備運行中,經常發現华体会hth登录入口純水設備出現脫鹽率下降過快的情況,那麼脫鹽率過快下降的原因有哪些呢?

华体会hth登录入口設備脫鹽率下降

一、高壓差導致脫鹽率下降

壓差升高同時往往伴隨著脫鹽率快速下降。在正常的流量下,壓差的上升通常是由於膜元件水流量通道的隔網進入雜質,汙染物質和水垢引起的,導致產水流量的下降。當超過設定的給水流量時,也會發生過大的壓差,當啟動時給水壓力提升過快,發生水錘壓差會很大,如果膜已經被汙染,特別是微生物汙染,壓差也會增大。給水至濃水間的壓差表示的是水力阻力,與給水的流速、溫度有關,應該保持產

水和濃水有一定的流速。出現高壓差的可能性有:水垢、微生物汙染、阻垢劑沉澱、過濾器過濾介質漏、給水/濃水密封損壞。

二、在線化學清洗不合理導致脫鹽率下降

超純水設備在運行中是不可避免被汙染。預處理和添加各種要種藥劑隻能將华体会hth登录入口被汙染的可能性降到最低,而不能徹底的杜絕。因此,長期運行的华体会hth登录入口係統在經過一定時間的運行後,必須要充分論證和確認是哪一種汙染物。針對聚酰胺膜的特點,可以根據相應的汙垢選取適當的清洗劑:

a、鹽酸(36%-38%),配製成0.12%稀溶液,去除金屬氧化物質。

b、氫氧化鈉,配製成0.1%的稀溶液,去除二氧化矽、微生物膜、有機物等,pH約為12。作用是對有機微生物粘膜的水解破壞而剝離,對於二氧化矽膠體垢,形成的矽酸鈉為可溶性,從而除垢。

c、乙二胺四乙酸四鈉,作為螯合劑廣泛應用於工業清洗,1%水溶液pH10.5-11.5,加入濃度0.5%-1%。

d、十二烷基磺酸鈉,屬陰離子表麵活性劑,目的是分散在溶液中的有機化合物,可使溶液的表麵張力降低,引起正吸附,這樣可使溶液表麵溶質分子的的濃度大於溶液內部溶質分子的濃度。十二烷基磺酸鈉是华体会hth登录入口清洗是最主要的表麵活性劑,加入濃度為0.025%。

f、甲醛,甲醛對細菌、真菌、病毒、芽胞及原蟲等皆有極強的殺滅力,加入濃度為0.5%-35。

三、餘氯的控製差導致脫鹽率下降

次氯酸鈉作為殺菌劑,廣泛應用於純水設備預處理中。在华体会hth登录入口係統中,為防止华体会hth登录入口的微生物汙染,對华体会hth登录入口進水要進行氯化處理。用比色計測定餘氯,控製餘氯的質量濃度在砂過濾器進口處一般為0.5mg/L,不小於0.3mg/L,在华体会hth登录入口前保安過濾器處應小於0.1mg/L。而聚酰胺類膜的突出問題是防止其被氧化。進水餘氯值和強氧化均對其造成不利的影響,必須嚴格控製。因而定期檢測华体会hth登录入口進水的餘氯值極為重要。

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